光学薄膜的特点及测厚检测设备介绍

发布日期：2022-03-25 浏览次数：858

光学薄膜的特点及测厚检测设备介绍

由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。

光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割；膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的；可以是透明介质，也可以是吸收介质；可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为：制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射；膜层之间的相互渗透形成扩散界面；由于膜层的生长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性；膜层具有复杂的时间效应。



测量方法	非接触式/光谱干涉仪
测量对象	电子、光学用透明平滑薄膜、多层薄膜
测量原理	光谱干涉仪

产品特点

• 实现高测量重复性（± 0.01 μm 或更小，取决于对象和测量条件）

• 不易受温度变化的影响

• 可以制造用于研究和检查的离线型和制造过程中使用的在线型。

• 反射型允许从薄膜的一侧测量

• 只能测量透明涂膜层（取决于测量条件）

产品规格

测量厚度	1 至 50 μm（用于薄材料）、10 至 150 μm（用于厚材料）
测量长度	50-5000 毫米
测量间距	1 毫米 ~
小显示值	0.001 微米
电源电压	AC100 伏 50/60 赫兹
工作温度限制	5～45℃（测量时温度变化在1℃以内）
湿度	35-80%（无冷凝）
测量区域	φ0.6毫米
测量间隙	约 30 毫米