TEM、SEM、X射线分析等碳膜形成设备的碳膜沉积设备介绍

发布日期：2022-03-29 浏览次数：827

TEM、SEM、X射线分析等碳膜形成设备的碳膜沉积设备介绍



三台设备合二为一



该设备有两个独立的腔室，每个腔室都具有碳气相沉积、磁控溅射和亲水处理功能。一台设备配备了我们的 VC-100S、MSP-1S、PIB-10 和 3 种型号的性能。两个排气管系统由外部旋转泵的排气切换。
此外，每个腔室可以独立进行真空排气和大气释放，腔室可以保持真空。

采用

TEM、SEM、X射线分析等碳膜形成设备的碳膜沉积设备。它用于防止树脂包埋样品的充电。

离子溅射
SEM观察贵金属薄膜镀膜设备。应用贵金属涂层以防止 SEM 样品充电并提高二次电子产生的效率。除了通过磁控管靶电极进行低压放电外，样品台制成浮动式，以减少由于电子束流入造成的样品损坏。

亲水处理
用于透射电镜的网格网、胶棉支撑膜、碳支撑膜、其他金刚石刀具等的亲水处理，以及油渍的清洗。
用交流放电产生的等离子体离子照射样品表面。它破坏样品表面的化学键并形成官能团。因此，活化的样品表面与水分子之间的化学键得到促进，变成亲水的。
此外，通过破坏油渍等化学键，可以获得去除污渍的效果。
照射强度（软/硬）可以切换。