辐射温度计在单晶硅提拉设备的温度控制上的运用

辐射温度计在单晶硅提拉设备的温度控制上的运用

多晶硅在坩埚中熔化时的温度控制和晶种后旋转提拉时的温度控制。
从升降机视口进行的温度测量。



单晶硅提拉过程中的温度控制。

选型要点

对于硅的温度测量，在 1.1 μm 或更小的波长下进行温度测量是最佳的，因为温度的发射率变化很小。
FTKX 系列和 FLHX 系列是理想的，因为它们具有广泛的远距离、小光点类型（从 φ0.15 起）。由于光纤头结构紧凑且耐热150°C，因此即使环境温度稍高也可以安装。
头分离型无需采取辐射热对策。

所选机型

• NEW!在恶劣环境和狭小空间也能自由使用的1ms光纤型
  半阶型

  

  光纤式辐射温度计FTKX系列

  测量温度范围：100°C至2000°C

• 纤维型（耐热磁场）

• 高温

• 用于通过石英

• 0.1ms/1ms快速响应

• 用于金属

• NEW! 1ms 辐射温度计，规格可根据测量对象改变

  

  无纤维辐射温度计 FLHX 系列

  测量温度范围：90°C 至 2000°C

• 高温

• 用于通过石英

• 0.1ms/1ms快速响应

• 用于金属