用于贵金属薄膜涂层设备MSP-1S的特点

发布日期：2023-03-20 浏览次数：210

用于贵金属薄膜涂层设备MSP-1S的特点

真空磁控溅射镀膜特别适用于反应沉积镀膜,实际上,这种工艺可以沉积任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜.此外,该工艺也特别适合用于多层膜结构的沉积,包括了光学设计、彩色膜、耐磨涂层、纳米层压板、超晶格镀膜、绝缘膜等.早在1970年,已经有了高质量的光学薄膜沉积案例,开发了多种光学膜层材料.这些材料包括有透明导电材料、半导体、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等,至于氟化物则多是用在蒸发镀膜等工艺当中。



该设备专用于贵金属薄膜涂层，用于SEM观察。 该装置进行贵金属涂层，以防止SEM样品充电并提高二次电子生成的效率。 除了使用磁控管靶电极进行低压放电外，样品台是浮动的，减少了电子束流入造成的样品损坏。 操作简单，只需按一下按钮，就没有技巧。 它很小，不占用太多空间。 它在桌子的角落很有用。

产品特点

★MSP-1S是扫描型电子显微镜（SEM）观察用离子溅射成膜装置。

★目标是标准装备金钯（Au-Pd）。可选择金（Au）、铂（Pt）、铂钯（Pt-Pd）。

★样品台采用减轻离子损伤的浮动方式。

★低电压涂层，即使是敏感的样品也几乎没有样品损伤。

★用1个按钮全自动进行排气、涂层、泄漏。

★排气系统内置RP10升/min。