实验室用纳米CVD石墨烯/碳纳米管合成器技术

实验室用纳米CVD石墨烯/碳纳米管合成器技术




◉ 型号。 纳米CVD-8G（用于石墨烯合成）
◉型号。 纳米CVD-8N（用于碳纳米管）

每批仅需 1 分钟，可轻松合成高质量石墨烯和碳纳米管

CVD（化学气相沉积）

CVD法是一种稳定的技术，已经建立了多种用途，它是未来大规模合成石墨烯和碳纳米管的最现实的方法，因此我们在这台机器中采用了CVD方法。 制造商Moorfield与英国国家研究所合作，多次验证了这种薄膜沉积实验装置。 在与研究机构的合作下，已经验证了使用拉曼光谱，SEM，AFM等分析数据可以制备高质量的石墨烯和CNT样品。


冷壁CVD

采用冷壁/高温样品加热台（热板），反应快，重现性好。 设备小型化，加工时间缩短，可操作性强，可创建并存储30种合成配方。 除了标准系统配置外，还可以根据要求定制设备配置。 nanoCVD系统是一种实验装置，尽管体积小，但具有为基础研究和开发领域做出贡献的无限潜力。

技术特点

• 无需使用大型设备即可轻松进行石墨烯碳纳米管 （SWNT） 沉积实验

• 1批次只需30分钟！

• 冷壁式高效高精度过程控制

• 快速升温：室温→1100°C约3分钟

• 高性能机器，具有高精度的温度流量控制和出色的可重复性

• 操作简单！ 通过 5 英寸触摸屏进行操作和配方管理

• 最多可创建和保存 30 个配方和 30 步合成程序。

• 标配专用软件，数据记录为输出PC上的CSV文件

• USB电缆连接，PC端的配方创建→上传到设备

纳米CVD-8N（碳纳米管）



带旋转泵的纳米CVD-8N

nanoCVD-8N是一种通过CVD化学气相沉积法使用各种基质和催化剂在短时间内生长CNT的系统。 碳纳米管是通过将 CH2、C2H3 和 C3H4 等烃原料与薄膜或细颗粒（如铁、钴和镍）反应产生的，这些薄膜或细颗粒用作催化剂，在石墨台上使用 SiO1100/Si、Al4O2/Si 和 Si4N2 等基材在高达 2°C 的高温下燃烧。



宽度为7um的低覆盖率的SEM图像



高覆盖宽度2.8um的SEM图像



使用纳米CVD-8N制作的“SWNT森林"的SEM图像，图像宽度24um）



原子力显微镜图像



拉曼光谱514nm激光器






D&G拉曼峰区域