半导体制造行业用光刻黄光介绍

发布日期：2023-06-25 浏览次数：352

半导体制造行业用光刻黄光介绍

NLT3系列（黄灯）

光刻是半导体制造过程中不可少的工艺之一。

晶圆被光刻胶，然后进行蚀刻和掺杂过程。

NLT3-591nm系列以光刻胶不反应的波长发光，使其适用于光刻前后工艺中的设备照明，这是一种半导体制造工艺。



应用示例

半导体设备照明、IC工厂照明、洁净室、黄室等

规范

发光二极管波长	591纳米
预期寿命	工作温度 40°C 40，000 小时 * 寿命是照度为初始照度的 70% 时
工作温度	-10°C~40°C（但不冻结）
防护等级	IP65 防护等级
电源线	3 米 （AWG26x2C）

选择	安装磁铁 （ND-P03）

































型号/尺寸（毫米）	A	B
NLT3-05-DC-S	210	200
NLT3-10-DC-S	330	320
NLT3-20-DC-S	580	570
NLT3-30-DC-S	830	820
NLT3-40-DC-S	1080	1070

型号选择方法

型	大小	权力	盖	选择
NLT3	05 10 20 30 40	直流=直流 24V	无 符号 = 透明 S = 乳白色	安装磁铁 （ND-P03） 安装磁铁 （ND-P03） 波长：591nm 交流/直流适配器 （ND-PM243）