离子溅射仪MSP-1S的镀膜原理分析

离子溅射仪MSP-1S的镀膜原理分析

离子溅射仪的镀膜的主要方式有两种：热蒸发和离子溅射（包括直流溅射和磁控溅射）。

热蒸发是通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积到样品表面并形成膜。




离子溅射是将靶材、样品均置于真空室中；首先进行抽真空，实现辉光放电所需的低气压环境；靶材接高压，为负极；样品台接地，为正极；靶材与样品台之间形成高压电场，电离气体；气体电离后，正离子飞向负极，轰击靶材，靶材原子被溅射飞出，沉积到样品上形成导电膜。






MSP-1S

该设备专用于贵金属薄膜涂层，用于SEM观察。 该装置进行贵金属涂层，以防止SEM样品充电并提高二次电子生成的效率。 除了使用磁控管靶电极进行低压放电外，样品台是浮动的，减少了电子束流入造成的样品损坏。 操作简单，只需按一下按钮，就没有技巧。 它很小，不占用太多空间。 它在桌子的角落很有用。
用途
用于 SEM 样品的金属涂层设备。

关于目标金属

当您下第一个订单时，您将收到您选择的一个贵金属目标。
请根据使用目的选择。


AU：黄金观察区域：10，000~10，000倍 Au-PD：金钯

观察区域：10，000~50，000倍
非常适合
低倍率观察和良好的对比度。

铂：铂金 观察区域：50，000~100，000次 Pt-PD：铂钯

观察区域：30，000~50，000倍
它具有细
粒度，通常用于高倍率观察。