产品展示
PRODUCT DISPLAY
技术支持 您现在的位置:首页>技术支持> agc溅射靶材的成膜技巧及用途示例分析

agc溅射靶材的成膜技巧及用途示例分析

  • 发布日期:2023-12-11 浏览次数:77
    • agc溅射靶材的成膜技巧及用途示例分析

      1.应用及应用实例

      • 显示相关光学薄膜

      • 触摸屏用折射率匹配膜

      • 减反射膜

      • 碱性保护膜

      • 数码相机用ND滤镜

      光学薄膜的功能

      1) 增透膜

      当薄膜的折射率为n1、膜厚为d时,当薄膜的光学距离为n1・d=λ/4(光的波长的1/4倍)时,反射率变得最小,因为光的干涉效应。马苏。此外,可以通过在最佳光学设计下层压高折射率和低折射率薄膜来形成减反射膜。
      图片1

      2) 薄膜太阳能电池用透明导电膜(薄膜Si型、CIGS型)

      3) 建材用Low-E玻璃用介电膜(金属与氧化物的层叠膜)

      • [太阳能电池(CIGS系统)]
        太阳能电池图

        AZO薄膜的作用是传输光以利用太阳能发电,并让所产生的电力像电线一样流动。

      • [Low-E玻璃]
        Low-E玻璃示意图

        金属和氧化物薄膜层叠起来可以阻挡太阳光的红外线和紫外线。ST薄膜起到保护这些薄膜免受酸雨和划痕的作用。

      2. 材料设计

      将薄膜所需的功能(导电性、透过率、反射率、吸收性、耐碱性等)融入到目标组合物中,提供各种组合物的目标产品阵容。
      我们还接受有关标准阵容以外的作品的个人咨询。

      3. 光学设计

      形象图我们的光学薄膜目标范围广泛,从低折射率薄膜(n=1.46)到中折射率薄膜(n=1.7至2.0)和高折射率薄膜(n=2.2至2.4)。从这些产品阵容中,我们选择满足客户需求的目标,并利用光学模拟技术提出光学多层膜设计。

      成膜技巧

      1. 薄膜沉积方法的分类

      形象图

      [溅射的特点]

      1. 能够在大面积基材上成膜

      2. 能够形成与基材附着力强的薄膜

      3. 即使是高熔点物质也可以成膜

      4. 膜厚分布均匀

      5. 可实现高精度薄膜质量和厚度控制

      2. 什么是溅射?

      图片2通过将惰性气体(主要是氩气)引入真空室并在基板和溅射靶材之间施加高直流或交流电压,将氩气等气体转变为等离子体。此时产生的离子被电场加速并与靶材碰撞,导致靶材成分飞出并附着在相对的基板表面上。这是利用这一原理在基板上形成纳米到微米级薄膜的方法。

      3. 溅射薄膜的特点

      进行溅射的等离子体中的阴极压降通常高达约400V,因此从靶材发射的溅射原子具有相当于约10eV的大能量。(这比气相沉积产生的约0.2 eV的原子能大得多)。这些高能原子沉积在基材上形成薄膜,从而形成致密的薄膜,对基材具有很强的附着力。

      随着磁控溅射技术的建立,溅射方法的沉积速度显着提高,大型在线镀膜机的发展使生产率显着提高。在此背景下,溅射技术未来有望继续满足各种新的需求。



    联系方式
    • 电话

    • 传真

    在线交流
    Baidu
    map