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反射箔的发射率测量技术介绍

  • 发布日期:2023-12-16 浏览次数:83
    • 反射箔的发射率测量技术介绍

      测量低发射率箔片总近法向发射率的程序,使最终用户能够使用积分球装置或全半球近法向反射计对发射率低于0.1的不确定度低于0.03的反射箔片进行发射率测量。

      本良好实践指南的目的是为最终用户提供以下建议和程序:使用商用TIR100-2发射仪或与傅立叶变换光谱仪相关的红外积分球,对不确定度低于0.03的反射箔(发射率<0.1)进行总近法向发射率测量,-测定反射率低于0.05的反射箔(发射率<0.1)的半球总发射率。在欧盟,最终用户主要用于测量反射箔发射率的设备是与FTIR光谱仪和INGLAS公司的反射计TIR100-2相关的积分球。在EMIRIM项目中对这两种测量技术进行了详细的研究,并对它们在测定低发射率反射片总半球发射率方面的性能进行了量化。

      积分球的一般原理

      样品近法向光谱发射率的测量:测量原理见Erreur!入射辐射束(光谱调制)由FTIR光谱仪产生。积分球用于收集样品表面反射的辐射,无论反射的扩散是否有规律。入射光束相对于样本表面的法线略微倾斜,

      因此反射的镜面分量总是由积分球收集。由于样品反射的辐射在积分球上的多次反射,积分球方法原则上对样品上反射的角度分布不敏感,并且检测器测量的信号与样品的反射率成比例。

      必须使用在接近正常光谱反射下校准的样品对系统进行校准;

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      校准标准

      对于低发射率箔片的发射率测量,建议使用镜面低发射率标准(镜子)。标准的校准应可追溯到SI(国际单位制),标准的总近法向发射率的扩展不确定度应约为0.02(k=2)。

      测试的样品

      如果测试的反射箔是透明的或有孔(例如水蒸气渗透性),则在测量过程中,应放置一个高发射率不透明表面,使其与箔的背面接触。这种配置更好地代表了在隔热系统中使用大多数反射箔的实际配置,

      通常在箔后面有高发射率材料。

      带“单光束替代误差"校正的测量序列的描述

      对于积分球,当高反射校准参考样品被另一个样品代替时,由积分球壁组成的空腔、开口和从球体内部可见的样品表面的平均反射率发生变化。因此,对积分球系统的辐射测量灵敏度进行了修正。

      辐射测量灵敏度的这种修改通常是重要的,必须考虑到这一点才能无误地计算样品的光谱反射率。灵敏度随样品反射率(发射率)变化产生的误差称为“单光束样品吸收误差"[1]或“单光束替代误差[2]。图2显示了反射率测量的不同配置,并对“单光束替代误差"进行了系统校正。

      TIR100-2型是一种紧凑型手持分析仪器,采用的是一种无损技术,测量每秒内的热发射率。

      测量一个锡箔

      国际公路货运公司是在德国制造的。

      TIR100-2型的特点

      • 数秒钟内完成的测量

      • 通过易于使用的触摸屏操作和结果

      • 高测量精度和重复性

      • 测量样品保持在常温下

      • 可在现场或实验室使用的便携式装置


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