“高强度,高纯度氧化铝陶瓷”为医疗和耐等离子领域做出的贡献
西村高强度高纯度氧化铝陶瓷N-9000NS和N-9000T
西村高强度高纯度氧化铝陶瓷N-9000NS和N-9000T的平均晶粒尺寸为1μm或更小,比普通高纯度氧化铝陶瓷强1.5至2倍。作为使用的陶瓷,它引起了人们的注意。另外,由于几乎没有晶界偏析,因此被用作具有优异的耐等离子体性的半导体制造设备用陶瓷。
“高纯度氧化铝陶瓷”具有各种特性,但应注意六个主要特性。
(1)优异的耐久性
由于其高硬度和出色的耐磨性,它适合用作长时间使用的零件的材料。
(2)难以突破
它是精密零件的z佳材料,因为它抗弯曲,扭曲和压缩,并且不易损坏。
(3)温和,易洗
表面光滑,且晶体粒径为1微米或更小。
由于红细胞的大小为5微米,因此不易粘附到氧化铝晶体上且易于清洗,因此
适用于重复使用以及需要保持卫生的应用。
(4)耐化学药品
它不易被大多数酸和碱侵蚀,并具有出色的耐化学性。
(5)优异的耐等离子性
由于它具有高纯度(Al2O3> 99.9%)并且几乎没有晶间偏析,因此被用作抗等离子体材料。
(6)绝缘性好
由于杂质少,因此绝缘击穿电压高(能够承受作为绝缘材料的电压的能力),体积效率低(每单位体积的电阻值),即使在高温下也保持绝缘,并且耐热性优异。
评价项目 |
单元 |
西村高纯 |
(参考值) |
|||
N-9000NS |
N-9000T |
ISO 6474 * 1 |
ASTM F603 * 1 |
|||
堆积密度 |
克/厘米3 |
3.99 |
3.99 |
≧3.94 |
≧3.90 |
|
化学成分 |
铝2O3 |
% |
> 99.9 |
> 99.9 |
≧99.5 |
≧99.5 |
氧化镁 |
% |
<0.05 |
<0.05 |
≤0.3 |
― |
|
其他 |
% |
<0.05 |
<0.05 |
― |
― |
|
SiO2 + CaO + |
% |
― |
― |
≤0.1 |
― |
|
SiO2 +碱 |
% |
― |
― |
― |
≤0.1 |
|
精细的 |
平均晶粒尺寸 |
微米 |
0.95 |
0.95 |
≤4.5 |
≤7 |
标准偏差 |
微米 |
― |
― |
≤2.6 |
― |
|
弯曲强度 |
兆帕 |
822 |
750 |
― |
≧400 |
|
弹性系数 |
GPa |
406 |
401 |
― |
≧380 |
|
维氏硬度 |
GPa |
21.4 |
18.8 |
― |
― |
特别地,从特征(3)中提到的表面光滑度可以预期以下应用。