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红外线灯加热装置在铁电薄膜的晶体退火上的运用

  • 发布日期:2021-08-26 浏览次数:641
    • 红外线灯加热装置在铁电薄膜的晶体退火上的运用

      MILA-5000系列可以进行高速加热/冷却和清洁加热,这是红外金像炉的特点。它可以在自由气氛中加热,并且带有集成温度控制器和变量的紧凑和廉价大气室. 红外线灯加热装置.
      可通过USB连接在个人电脑上进行加热操作, 数据易于管理。

      用途

      • 铁电薄膜的晶体退火

      • 离子注入后的扩散退火、氧化膜形成退火

      • Si、复合晶片烧结、合金化处理

      • 玻璃基板均温仪

      • 热循环、热冲击、热疲劳试验

      • 升温脱附试验用加热炉

      • 催化效果试验


      特征

      • 选择任何气氛,如真空、气体、气流、气氛

      • 精确的温度控制

      • 桌面和紧凑的设计

      • 您可以轻松设置温度程序并从计算机输入外部信号。

      • 可以在个人电脑上显示加热过程中的温度数据。

      规格

      模型 MILA-5000-PF
      均热型)
      MILA-5000-PN
      (高温型)
      MILA-5000UHV
      (高温/高真空型)
      温度范围 室温~800℃ 室温~1200℃
      样品尺寸 方形 20mm x 厚度 2mm
      加热气氛 在空气中、真空中、惰性气体中 在空气中,在高真空中,在惰性气体中
      极限真空度 6.5Pa(RP*1使用,常温空载) 10-4Pa(TMP*1使用,常温空载)

      * 1 真空排气装置是一个选项
      * 2 加热温度因被加热物体的红外线反射/吸收、热容量和材料而异。

    联系方式
    • 电话

    • 传真

    在线交流
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