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更新日期：2023-07-13
简要描述：
日本朝日分光asahi-spectra光谱膜厚监测仪OMD-1000
这是一台光谱膜厚监测仪，用于监测在用单色光进行气相沉积过程中基板上的光量变化。它也用在我们自己的气相沉积设备中，并作为膜厚监测设备完成，该设备具有气相沉积零件制造商的专有技术。
| 品牌 | 其他品牌 | 产品种类 | 台式 |
|---|---|---|---|
| 数显功能 | 有 | 温控功能 | 有 |
| 产地 | 进口 |
日本朝日分光asahi-spectra光谱膜厚监测仪OMD-1000
这是一台光谱膜厚监测仪，用于监测在用单色光进行气相沉积过程中基板上的光量变化。它也用在我们自己的气相沉积设备中，并作为膜厚监测设备完成，该设备具有气相沉积零件制造商的专有技术。
全波长范围
在传统型号中，波长选择是滤光片类型，但是新产品结合了我们成熟的光谱仪，现在可以选择任何波长。
膜厚变化的信号是从电压输出到与个人计算机兼容的数字输出，控制机制是从手动操作到个人计算机的命令控制。此外，通过将薄膜厚度计主体通过I / F直接连接到个人计算机来控制其厚度成为可能，这是一个非常紧凑的系统，无需像其他制造商一样具有控制器。
特征
分光镜设计紧凑
通过提高抗噪声性（静电放电测试耐受电压±5 kV）实现高度可靠的膜厚度监控
可以通过PC上的命令自动控制
通过将控制器合并到接收器主体中来实现高性价比
日本朝日分光asahi-spectra光谱膜厚监测仪OMD-1000
| 模型 | OMD-1000 |
| 光谱仪类型 | Zellny Turner类型单单色 |
| 波长范围 | 保证范围：380至900 nm可操作 范围：350至1100 nm |
| 波长分辨率 | 狭缝0.5mm：4.2nm [546nm] 狭缝1.0mm：8.3nm [546nm] |
| 波长精度 | ±1.0纳米 |
| z小波长进给 | 0.1纳米 |
| 外部控制 | RS232C |
| 外部输出端子 | DC0-2V（满量程） |
| 采样间隔 | 100ms以上 |
| 静电放电试验耐电压 | ±5kV（实际8kV） |
| 光源 | 12V100W卤素灯 |
| 光强度稳定性 | ±0.1％/ h以下 |
| 输入电压 | AC100V 50/60赫兹 |
| 允许输入电压 | AC85-132V |
| 视在功率 | 340VA以下 |
| 使用环境 | 温度10-35℃ 湿度20-80％ |
