膜厚测量系统测厚仪

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更新日期：2023-10-12

简要描述：

日本filmetrics膜厚测量系统F20
一种行业标准、低价、多功能的台式薄膜厚度测量系统，已在安装了 5,000 多台。它可用于从研发到制造现场在线测量的广泛应用。

详细介绍

类型	数字式	测量范围	1

日本filmetrics膜厚测量系统F20

一种行业标准、低价、多功能的台式薄膜厚度测量系统，已在安装了 5,000 多台。它可用于从研发到制造现场在线测量的广泛应用。
F20基于光学干涉法可在1秒左右轻松测量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系数。
它还支持多点在线测量，并支持RS-232C和TCP/IP等外部通讯，因此可以通过PLC或上位机进行控制。

主要特点

支持广泛的膜厚范围（1 nm 至 250 μm）
支持宽波长范围（190nm 至 1700nm）
强大的膜厚分析
光学常数分析（折射率/消光系数）
紧凑的外壳
支持在线测量

日本filmetrics膜厚测量系统F20

主要应用

平板	单元间隙、聚酰亚胺、ITO、AR膜、各种光学膜等。
半导体	抗蚀剂、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
光学镀膜	防反射膜、硬涂层等
薄膜太阳能电池	CdTe、CIGS、非晶硅等
引	砷化铝镓（AlGaAs）、磷化镓（GaP）等
医疗的	钝化、药物涂层等

产品阵容

模型	F20-UV	F20	F20-近红外	F20-EXR	F20-UVX
测量波长范围	190 – 1100nm	380 – 1050nm	950 – 1700nm	380 – 1700nm	190 – 1700nm
膜厚测量范围	1nm – 40μm	15nm – 70μm	100nm – 250μm	15nm – 250μm	1nm – 250μm
准确性*	± 0.2% 薄膜厚度		± 0.4% 薄膜厚度	± 0.2% 薄膜厚度
准确性*	1纳米	2纳米	3纳米	2纳米	1纳米
测量光斑直径	支持高达1.5 毫米或 0.5 毫米小 0.1 毫米（可选）
光源	氘· 卤素	卤素			氘· 卤素

* Filmometry 提供的测量 Si 基板上的 SiO2 膜时器件主体的精度。

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