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膜厚测量系统 测厚仪

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更新日期:2023-10-12

简要描述:

日本filmetrics膜厚测量系统F20
一种行业标准、低价、多功能的台式薄膜厚度测量系统,已在安装了 5,000 多台。它可用于从研发到制造现场在线测量的广泛应用。

膜厚测量系统 测厚仪
类型 数字式 测量范围 1

日本filmetrics膜厚测量系统F20

一种行业标准、低价、多功能的台式薄膜厚度测量系统,已在安装了 5,000 多台。它可用于从研发到制造现场在线测量的广泛应用。
F20基于光学干涉法可在1秒左右轻松测量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系数。
它还支持多点在线测量,并支持RS-232C和TCP/IP等外部通讯,因此可以通过PLC或上位机进行控制。

主要特点

  • 支持广泛的膜厚范围(1 nm 至 250 μm)

  • 支持宽波长范围(190nm 至 1700nm)

  • 强大的膜厚分析

  • 光学常数分析(折射率/消光系数)

  • 紧凑的外壳

  • 支持在线测量

日本filmetrics膜厚测量系统F20

主要应用

平板 单元间隙、聚酰亚胺、ITO、AR膜、
各种光学膜等。
半导体 抗蚀剂、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
光学镀膜 防反射膜、硬涂层等
薄膜太阳能电池 CdTe、CIGS、非晶硅等
砷化铝镓(AlGaAs)、磷化镓(GaP)等
医疗的 钝化、药物涂层等

产品阵容

模型 F20-UV F20 F20-近红外 F20-EXR F20-UVX
测量波长范围 190 – 1100nm 380 – 1050nm 950 – 1700nm 380 – 1700nm 190 – 1700nm
膜厚测量范围 1nm – 40μm 15nm – 70μm 100nm – 250μm 15nm – 250μm 1nm – 250μm
准确性* ± 0.2% 薄膜厚度 ± 0.4% 薄膜厚度 ± 0.2% 薄膜厚度
1纳米 2纳米 3纳米 2纳米 1纳米
测量光斑直径 支持高达1.5 毫米或 0.5 毫米
小 0.1 毫米(可选)
光源

氘·

卤素

卤素

氘·

卤素

* Filmometry 提供的测量 Si 基板上的 SiO2 膜时器件主体的精度。


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