日本advance riko桌面型快速退火炉 热风炉

日本advance riko桌面型快速退火炉MILA-5000 系列

MILA-5000系列
MILA-5000系列加热炉体使用红外金面退火炉，可以进行快速升降温，洁净加热。MILA-5000系列将温控器与石英加热腔集成于一体的经济型退火炉，可以在不同的气氛下进行加热。可通过USB连接电脑并进行监测与加热程序设置。

MILA-5000UHV
MILA-5000UHV是一款在MILA-5000-P-N（高温型）基础上升级的一款高真空型退火炉。该系列继承了MILA-5000系列的的特点：快速升降温，洁净加热，可在不同的气氛下加热。同样可以通过USB连接PC进行温度监测与加热程序设置。

用途

MILA-5000系列

• 铁电薄膜的晶体退火。

• 离子注入后的扩散退火，氧化膜沉积退火。

• 硅和复合晶片的烧结，合金化处理。

• 玻璃基板温度均匀退火。

• 热循环，热冲击，热疲劳测试。

• 程序升温解吸测试，催化效果测试。

MILA-5000UHV

• 在超高真空中进行热处理。

• 程序升温解吸气体分析炉。

特長

MILA-5000系列

• 1. 50℃/S的快速升温.

• 2. 可在真空，惰性气体，流动气氛，空气的气氛下进行加热

• 3. 精确的温度控制

• 4. 紧凑，桌面型设计

• 5. 通过USB连接电脑与炉体，可进行温控程序的编辑与传输

• 加热过程中可通过电脑监测加热数据

MILA-5000UHV

• 可进行超高真空的热处理

• 搭配分子泵，真空度可达到10-5Pa

• 继承了MILA-5000-P-N的全部特点

• 紧凑，桌面型设计

• 通过USB连接电脑与炉体，可进行温控程序的编辑与传输

• 加热过程中可通过电脑监测加热数据

仕様

MILA-5000系列

* 真空泵可选
* 加热温度or升温速率根据被加热样品的红外反射率，吸收率，热容和材料而变化。

高真空型

* 真空泵可选
* 加热温度or升温速率根据被加热样品的红外反射率，吸收率，热容和材料而变化。

日本advance riko桌面型快速退火炉MILA-5000 系列