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日本 acxys 等离子体设备ULCoat系列 氨法脱硫设备

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更新日期:2023-06-30

简要描述:

日本 acxys 等离子体设备ULCoat系列
通过在放电后向等离子体中注入前驱体,ULCoat系列可以在处理过的表面上沉积薄膜。
ULCoat是一款可将前驱体汽化并注入等离子体中,后由喷嘴完成薄膜沉积的系统。ULCoat系列需要与ULS OMEGA系列配合使用。

日本 acxys 等离子体设备ULCoat系列 氨法脱硫设备
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日本 acxys 等离子体设备ULCoat系列

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通过在放电后向等离子体中注入前驱体,ULCoat系列可以在处理过的表面上沉积薄膜。

ULCoat是一款可将前驱体汽化并注入等离子体中,后由喷嘴完成薄膜沉积的系统。ULCoat系列需要与ULS OMEGA系列配合使用。
ULCoat系列的标准版本是为了允许使用有机金属作为前驱体进行氧化硅(SiOx)的沉积而设计的。当然,我们也可以根据要求开发其他薄膜成分。
您可以与我们的研发实验室合作,在研发合同的框架下,定制您的专属解决方案。

ULCoat系列技术特点

  • – 与ULS OMEGA系列搭配使用

  • – 薄膜沉积

  • – 沉积厚度范围从50至1000纳米

  • – 沉积薄膜厚度均匀(+/- 2%)

  • – 中高处理速度可达200nm.cm²/s

  • – 专为氧化硅(SiOx)的沉积进行优化

喷嘴

在注入等离子体之前,液态前驱体的流速是可以控制的。该模块由几个部分组成。

  • – 前驱体储存罐

  • – 前驱体流量控制单元

  • – 气体流量控制单元

  • – 加热器模块(可选)

直观的数字触控屏

  • – 内置触摸屏(OEM版本除外)

  • – 直观的控制方式

  • – 多语言界面

  • – 故障检测和诊断

  • – 实时显示指令

适用气体

  • – 空气

  • – 氮气

  • – 其他混合气体

日本 acxys 等离子体设备ULCoat系列

ULCoat系列的优势

  • – 工作温度低

  • – 沉积薄膜厚度均匀(+/- 2%)

  • – 可以研究其他类型的沉积

  • – OpenFlow版本可用于开发新的沉积工艺



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